Aparelho Fonte De Plasma, Ferramenta De Processamento De Materiais, E, Métodos Para Gerar Um Feixe De Partículas Carregadas, Para Modificar Uma Peça De Trabalho E Para Formar Imagem De Uma Peça De Trabalho

1 / 1 resumo “aparelho fonte de plasma, ferramenta de processamento de materiais, e, mã‰todos para gerar um feixe de partã�culas carregadas, para modificar uma peã‡a de trabalho e para formar imagem de uma peã‡a de trabalhoâ€� um aparelho fonte de plasma para gerar um feixe de partã­culas carregadas ã© descrito. o aparelho compreende: uma cã¢mara de plasma fornecida com uma entrada para o ingresso de gã¡s e uma abertura para extraã§ã£o de partã­culas carregadas a partir da cã¢mara de plasma; uma unidade de geraã§ã£o de plasma de rã¡dio frequãªncia (rf) para gerar um plasma dentro da cã¢mara de plasma, a unidade de geraã§ã£o de plasma de rã¡dio frequãªncia compreendendo primeiro e segundo circuitos ressonantes, cada um sintonizado para ressonar substancialmente na mesma frequãªncia ressonante, o primeiro circuito ressonante compreendendo uma primeira antena e uma primeira fonte de alimentaã§ã£o de rf adaptada para acionar o primeiro circuito ressonante substancialmente em sua frequãªncia ressonante, e o segundo circuito ressonante compreendendo uma segunda antena, pelo que, em utilizaã§ã£o, um sinal de rf ã© induzido na segunda antena pelo primeiro circuito ressonante devido a acoplamento ressonante, o segundo circuito ressonante sendo configurado para aplicar o sinal de rf induzido ã cã¢mara de plasma, para gerar um plasma nela; e uma unidade de aceleraã§ã£o de partã­culas para extrair partã­culas carregadas a partir do plasma e acelerar as partã­culas carregadas para formar um feixe, a unidade de aceleraã§ã£o de partã­culas compreendendo uma segunda fonte de alimentaã§ã£o configurada para aplicar potencial entre a cã¢mara de plasma e um eletrodo de aceleraã§ã£o, a regiã£o entre a cã¢mara de plasma e o eletrodo de aceleraã§ã£o constituindo uma coluna de aceleraã§ã£o. a primeira fonte de alimentaã§ã£o ã© adaptada para dar saã­da a uma voltagem alta em relaã§ã£o ã quela saã­da pela primeira fonte de alimentaã§ã£o de rf.